Saito Tatsuyuki | Device Development Center, Hitachi, Ltd., 6-16-3 Shinmachi, Ome, Tokyo 198-8512, Japan

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Device Development Center, Hitachi, Ltd., 6-16-3 Shinmachi, Ome, Tokyo 198-8512, Japan | 論文

• Impact of Self-Aligned Metal Capping Method on Submicron Copper Interconnections

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