Morita Yukinori | MIRAI-Advanced Semiconductor Research Center (MIRAI-ASRC), National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)
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概要
- 同名の論文著者
- MIRAI-Advanced Semiconductor Research Center (MIRAI-ASRC), National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)の論文著者
論文 | ランダム
- 硫化水素とメタンを用いたマグネトロンスパッタ法による a-SiCS : H 薄膜
- メタンとフッ化硫黄を用いたマグネトロンスパッタ法によって作製したa-SiCS:H:F薄膜
- 二酸化炭素とメタンを用いたマグネトロンスパッタ法によって作製した a-SiC:O:H 薄膜の特性
- 三元系水素化アモルファス薄膜a-SiCO:Hの作成と特性
- スパッタ法によるアモルファスGeCO:H薄膜