Uchida Keisuke | Ricoh Company Ltd., Environmental Technology R&D Center, 16-1 Shinei-cho, Tsuzuki-ku, Yokohama, Kanagawa 224-0035, Japan
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概要
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- Ricoh Company Ltd., Environmental Technology R&D Center, 16-1 Shinei-cho, Tsuzuki-ku, Yokohama, Kanagawa 224-0035, Japanの論文著者
論文 | ランダム
- 30aRD-3 歪みによるSi/Ge(111)-√×√-Ag表面の電子状態の変化(30aRD 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))
- 日本で発見され工業化された酸化物磁性材料「フェライト」
- 26aTD-3 Ge/Si(111)-5×5-DAS表面上のAg吸着構造の電子状態(表面界面電子物性,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 20aPS-11 Si(111)表面上のAuシリサイドナノクラスターの局所電子状態と光電子分光(ポスターセッション,領域9,表面・界面,結晶成長)
- 30pYB-2 Si(111)表面上のAuシリサイドナノクラスターの局所電子状態(30pYB 表面界面電子物性,領域9(表面・界面,結晶成長))