TAKASO Tokushiro | Iriomote Laboratory, Research Institute for Humanity and Nature
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概要
論文 | ランダム
- 研究開発情報 酸化物半導体の新しい薄膜作製法
- YBa_2Cu_3O_x/SrTiO_3/La_xSr_TiO_3PIN接合素子の試作研究
- 遮蔽マスクを用いた高品位レーザーアブレーション成膜法(エクリプス法)
- エクリプス・エンジェルPLD法の提案とその特性 (超伝導エレクトロニクス/一般)
- 粒子拡散を利用する新しいレ-ザ-アブレ-ション薄膜形成(エクリブス法)