SHIROISHI Yoshihiro | Central Research Laboratories, Hitachi Manufacturing Co.
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概要
論文 | ランダム
- 紫外光分解反応を用いた減圧・高濃度オゾンガス分解装置
- 高純度オゾン雰囲気中への紫外照射による化学気相堆積法(CVD)SiO_2膜の改質
- 励起状酸素を用いたシリコン低温酸化の大型基板酸化への適用
- 1,1,1,3,3,3-ヘキサメチルジシラザン(HMDS)とオゾンによるシリコン酸化膜成長 : 赤外吸収スペクトルによる解析
- ピュアオゾンジェネレータ(MPOG)によるTFT用ポリシリコン半導体酸化