ISHIKAWA Masayuki | Department of Electrical and Computer Engineering, University of California:(Present address) Toshiba Corporation

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概要

• 同名の論文著者
• Department of Electrical and Computer Engineering, University of California:(Present address) Toshiba Corporationの論文著者

論文 | ランダム

• 20pRB-6 Y_Tb_xCo_2の輸送特性の圧力依存(20pRB 遍歴磁性,領域3(磁性,磁気共鳴))
• 内部被曝の封印は膨大な被曝被害者の隠蔽 (特集 放射能兵器の脅威--われわれは闘う、核兵器がなくなる日まで)
• 内部被曝を封印したDS86を批判する
• 23aPS-51 Y_Tb_xCo_2の熱電能と電気抵抗率の圧力効果(23aPS 領域3ポスターセッション(磁性),領域3(磁性,磁気共鳴))
• 26aXL-7 スピネル化合物CuIr_2S_4に於ける新規伝導メカニズム(26aXL 半導体スピン物性(実験),領域4(半導体,メゾスコピック系・局在))

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