Aoki Katsuhiro | Texas Instruments Tsukuba Research & Development Center, Ltd.
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概要
論文 | ランダム
- 3p-KT-3 非一様磁場中におけるプラズマの共鳴加熱桟構
- 22p-C-6 非一様磁場中プラズマの速度空間の共鳴拡散と加熱
- 4a-J-12 強磁場中高密度プラズマのレーザー加熱
- G. Ecker: Theory of Fully Ionized Plasmas, Academic Press, New York, 1972, 344 ページ, 23.5×16cm, 7,020 円
- B. Alder, S. Fernbach and M. Rotenberg編: Methods in Computational Physics Vol. 9; Plasma Physics, Academic Press, 1970, 495頁, 15.5×23.5cm, 9,200円.