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TATSUNO Kimio | Central Research Laboratories, Hitachi, Ltd.
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粉末法による電子材料の格子定数測定
イオン注入による表面改質
イオン注入とトライボロジー
23pF-6 イオンビーム照射高分子への細胞接着など基礎現象
B-14-6 仮想サーバ環境でのリソース配分における性能傾向(B-14.情報通信マネジメント,一般セッション)
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