ARIKADO Tsunetoshi | Process and Manufacturing Engineering Center, Semiconductor Company, Toshiba Corp.:(Present)Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.

スポンサーリンク

概要

• ARIKADO Tsunetoshiの詳細を見る
• 同名の論文著者
• Process and Manufacturing Engineering Center, Semiconductor Company, Toshiba Corp.:(Present)Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.の論文著者

論文 | ランダム

• 逐次状態分割法による隠れマルコフ網の自動生成
• 隠れマルコフ網のための話者適応法
• 双方向網探索によるHMM文節音声認識系の評価
• 学生の自己学習能力を育てる自己評価 : 基礎ゼミI学生自己評価と教員評価
• 40423 建物緑化・高反射率塗料導入による熱環境改善・LCCO_2の同時評価(その2) : 断熱条件別の熱環境改善効果・LCCO_2排出量(都市緑化(2),環境工学I)

もっと見る

スポンサーリンク