QU Shiliang | Photon Craft Project, Shanghai Institute of Optics & Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences and Japan Science and Technology Corporation
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概要
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論文 | ランダム
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- (4×6)Ga安定化面上に形成したSi及びGaN界面制御層によるGaAs(001)表面不活性化とその評価(化合物半導体デバイスのプロセス技術)
- GaAs(001)Ga安定化面に形成したSi超薄膜のSTMによる評価
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- 583 高分子電解質複合ゲルのpH応答型放出制御機能