Inomata Kohsuke | Graduate School of Engineering, Kyoto University:CREST, JST
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概要
論文 | ランダム
- 中性子回折における多層薄膜の応用 (回折実験技術の進歩) -- (中性子線回折)
- 3a-BJ-9 偏極中性子ブラッグ散乱によるNi-SiO多重薄膜の表面磁化の測定
- 3a-BF-9 中性子一次元カウンターの試験結果
- 3a-BF-7 Fe-SiO多層膜による中性子ポラライザー
- 12a-B-3 多層薄膜ブラッグ散乱による表面磁性の研究