Odajima Akira | Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Hokkaido University:(present Address) Department Of Electrical Engineering Hokkaido Institute Of Technology
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概要
- 同名の論文著者
- Department Of Applied Physics Faculty Of Engineering Hokkaido University:(present Address) Department Of Electrical Engineering Hokkaido Institute Of Technologyの論文著者
論文 | ランダム
- B-13 各X線分光手法による歯の表層の検討(その6) : フッ化物処理による歯の表層の生成物について
- B-18 各X線分光手法による歯の表層の検討 : その4 フッ化物処理によるエナメル質の特性について
- X線マイクロアナライザーによる解析への試み その2
- B-14 各X線分光手法による歯の表層の検討 : その3 フッ化物処理によるエナメル質の特性について
- 12.グラスアイオノマーセメントに関する研究(7) : 経時的変動について(その2)(日本歯科理工学会 近畿・中四国, 九州2支部共催学術講演会)