Moniwa Masahiro | Graduate School Of Electronics And Information Engineering Hokkaido University:manufacturing Process Engineering Division Semiconductor & Integrated Circuits Hitachi Ltd.
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概要
- 同名の論文著者
- Graduate School Of Electronics And Information Engineering Hokkaido University:manufacturing Process Engineering Division Semiconductor & Integrated Circuits Hitachi Ltd.の論文著者
論文 | ランダム
- 表面波プラズマを用いた磁性金属内包カーボンナノカプセルの作製
- ダブルトンネルジャンクションを用いたマグネティックトンネルトランジスタ(薄膜)
- 空洞共振器を用いた透磁率測定
- CPP-GMRおよび鏡面散乱効果によるGMR効果の高性能化
- マグネティックトンネルトランジスタにおける磁気電流効果および電流透過率の検討