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堀越 和彦 | 日新電機
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日新電機 | 論文
27p-R-12 イオンビーム支援蒸着法による窒化硼素薄膜の研究(II) : 薄膜の構造評価
フィルタードアークイオンプレーティング法により形成したDLC膜のナノメータスケールの機械特性
真空アーク法によるカーボン薄膜の形成とその特性
真空中の電界電子放出源の挙動に対する課電履歴の影響について
真空ギャップにおける絶縁破壊前駆電流特性と絶縁破壊電圧の関係
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