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丸橋 一夫 | 日本大 歯 歯科放射線学
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CoFeSiO/SiO_2積層グラニュラー膜を用いた高周波薄膜インダクタ
磁性薄膜装荷型インダクタを用いた薄膜PAモジュールの試作
(Co-Fe)-Al-O薄膜の化学状態と磁気特性
新しい磁性薄膜インダクターの高周波への応用(セラミックスインテグレーション)
1D16 Co-Fe 系ナノグラニュラー磁性薄膜の高周波磁気特性
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