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渋谷 善弘 | (独)工業所有権情報・研修館 : Inpit人材育成部
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(独)工業所有権情報・研修館 : Inpit人材育成部の論文著者
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3a-WA-3 e^±-H_2Oの全断面積(II)
3a-TB-3 H_2Oによるe^+およびe^-散乱の全断面積
3a-TB-2 e^--O_2,C_2H_5OH,(CH_3)_2CO,CCl_4,SiH_4の全断面積
2a-KP-11 低速電子・陽電子-NH_3分子衝突
11a-J-2 e^+ and e^--CH_4,-C_2H_4,-C_2H_6全断面積
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