Hasegawa K | Yokohama National Univ. Yokohama Jpn

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概要

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Yokohama National Univ. Yokohama Jpn | 論文

• Morphology of Carbon Nanostructures in Alcohol Chemical Vapor Deposition
• Silicon Carbide Etching Using Chlorine Trifluoride Gas
• Nbアドバンストプロセスを用いた単一磁束量子浮動小数点演算器の設計(ディジタル,一般)
• SFQ TDCを用いた64kb Josephson/CMOSハイブリッドメモリのアクセスタイム測定(ディジタル,一般)
• C-8-10 SFQ浮動小数点乗算器の同期化および動作実証(C-8.超伝導エレクトロニクス,一般セッション)

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