Ishi Kimihiro | Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University, Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577
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概要
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- Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University, Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577の論文著者
論文 | ランダム
- 流れ刺激による細胞接着分子の発現 (8月第1土曜特集 血管壁細胞機能の制御) -- (内皮細胞の機能の制御--流れ情報の受容と伝達の分子機構・制御)
- 流れずり応力による内皮接着分子の遺伝子発現調節
- 30aYM-2 層状ルテニウム酸化物Ca_Sr_xRuO_4における構造量子臨界点近傍の磁気相図
- 0003 壁ずり応力はヒト血管内皮細胞の接着分子の遺伝子発現を修飾する
- NOとシェアストレス (Vascular biology〔邦文〕) -- (血管内皮由来弛緩因子)