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Ito Maki | Research & Development Group, Hitachi, Ltd.
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30a-NH-5 抵抗加熱法を用いたフラーレンの合成
30a-NH-3 ヘテロフラーレン合成実験
28a-NL-3 フラーレン混合LB膜のガス分子吸着特性
28p-X-1 ナノコンポジットレジストシステム : フラーレンC_添加によるレジストの高性能化
29p-D-1 フラーレン化合物の作製と金属相・超伝導相の探索
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