野村 光 | 千住金属工業株式会社 ハンダテクニカルセンター
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概要
論文 | ランダム
- 電気透析を用いたpH及び過飽和度制御によるKDP単結晶の育成 : 溶液成長I
- β-BaB_2O_4単結晶育成における電気伝導度に着目した濃度計測の基礎的検討 : 溶液成長I
- 24aA8 濃度計測制御によるKDP単結晶の高速育成(II)(バルク成長VI)
- 23aA10 溶液法によるBa(B_Al_x)_2O_4単結晶の育成(バルク成長IV)
- 溶液法による多面体のβ-BaB_2O_4単結晶の育成(VI) : バルク成長IV