髙橋 和也 | 山梨大学内科学講座第3教室
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概要
論文 | ランダム
- NEXAFS法を用いたスパッタリングc-BN薄膜の評価
- 反応性イオンビームスパッタリングによるCoFeO(100)配向膜の作製 (特集 グリーン/ライフ・イノベーションに向けた磁性材料・デバイスの新展開)
- 不純物蓄積によるスパッタリングへの影響 (第49回同志社大学理工学研究所研究発表会 2011年度学内研究センター合同シンポジウム 講演予稿集)
- ドライプロセスによるITO粉の合成とそれを用いて作製したITOターゲットのライフ特性
- Er.Y.SiO結晶導波路における導波特性の評価 (光エレクトロニクス)