濵﨑 史生 | 電源開発（株）　原子力技術部設備技術室

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概要

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• 電源開発（株）　原子力技術部設備技術室の論文著者

論文 | ランダム

• 4a-D-2 アモルファスSi:Nb薄膜の金属非金属転移
• 28p-G-4 金属非金属転移近傍のSiでの非線形電気伝導
• 12a-A-4 CH_3CSNH_2における^1H NMRの緩和時間
• 29a-L-5 層状超伝導体の磁場侵入深さの直接測定
• 4p-B-19 アモルファスシリコンへのイオン注入 ; 電気伝導

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