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堀内 一男 | (株)東芝生産技術センター
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CoCrTa/Cr磁性薄膜におけるSi基板前処理効果の検討 (磁気記録媒体)
Si基板上に成膜したCoCrTa/Cr磁性薄膜の熱処理における下地層へのTi添加効果
CoCrTa/Cr磁性薄膜におけるSi基板前処理効果の検討
CoCrTa/Cr磁性薄膜のSi(100)基板上への成膜における基板前処理効果
薄膜と表面技術 (薄膜技術の現状と展開--これからの薄膜)
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