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加藤 博人 | 国立研究開発法人建築研究所
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31p-F-3 水素・塩素共吸着Si(111)表面の光電子分光
29a-PS-64 光電子分光による塩素吸着Si(111)表面の電子刺激脱離
赤外光照射下におけるSi(111)表面のSTM観察
Si(111)-7x7表面での水素と塩素の吸着, 脱離のSTM観察
XPSを用いた塩素吸着Si(111)表面の光脱離の研究
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