辻 さつき | 放射線医学総合研究所 放射線防護研究センター 規制科学総合研究グループ
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概要
論文 | ランダム
- Highly Concentrated Ozone Gas for Preparing Wettable Polyimide Surface
- Numerical Evaluation of Silicon-Thin Film Growth from SiHCl_3-H_2 Gas Mixture in a Horizontal Chemical Vapor Deposition Reactor
- 28pYD-11 斜面上の希薄な粉体流の安定性
- Reaction of Hydrogen Fluoride Gas at High Temperatures with Silicon Oxide Film and Silicon Surface
- 'Drug holiday' effects of tandospirone in a patient with Machado-Joseph disease