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青野 正和 | 理化学研究所|新技術事業団青野原子制御表面プロジェクト
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レーザ切断加工におけるプラズマ発光挙動の観察
多機能紫外線プローブシステムを用いたプラズマ密度計測
2倍高調波光による吸収分布計測
VLAN自動コンフィグレーションサーバの一検討
ナイロン6に対する分散染料の拡散の活性化体積〔高圧力下における染色の物理学-9-〕
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