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松川 達夫 | Faculty of Eng Osaka Univ.
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スプリットフィルムプローブを用いたタンデム配置正方形角柱周辺の流れの測定
混載不揮発性メモリ技術の動向
直噴ディーゼル機関におけるスプリット噴射パターンが燃焼・排気性能に与える影響 : 第4報 排気生成過程に及ぼす噴射パターンの影響
分割形スプリットコイルと基準NMR磁力計を用いた低磁界標準の再構築
100mT以下の磁界標準のための高均一磁界スプリット形磁界発生器の開発
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