Hori T. | Dept. of Electrical and Electronic Engineering, Ritsumeikan University

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概要

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• Dept. of Electrical and Electronic Engineering, Ritsumeikan Universityの論文著者

論文 | ランダム

• 熱活性型RFプラズマCVD法によるBN膜の生成条件
• 立方晶窒化ほう素の特性とその気相合成における最近の話題
• 立方晶窒化ほう素膜の合成 (プラズマプロセス-3-)
• RFプラズマCVD法によるcBN膜(超硬質薄膜形成技術の新展開)
• 直腸部X線照射によるマウス直腸障害モデル作成

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