時田 俊彦 | 秋田大学鉱山学部冶金学科|秋田県庁

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論文 | ランダム

• HVPE法によるAlN厚膜の作製(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
• HVPE法によるAlN厚膜の作製
• Trifolium medium L. × 4x Trifolium pratense L.の雑種胚の発育
• HVPE法によるAlN厚膜の作製(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
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