河野 友宏 | 東京農大ゲノムセ

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概要

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論文 | ランダム

• 5p-Q-10 強光励起GaSeの光吸収
• 加工技術の発展 (電子工学における微細加工技術とその応用)
• 化合物半導体表面デバイス
• 12p-T-11 強く励起されたGaSeの発光 II
• 12a-F-8 イオン注入Si:P系のESR

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