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早川 基治 | 藤田保健衛生大医
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クォーターミクロンCMOSに適用した銅配線プロセス評価及びその電気特性への影響
堆積時に窒素をドープしたa-Siを用いたポリバッファLOCOS技術(2)
堆積時に窒素をドープしたa-Siを用いたポリバッファLOCOS技術
-0.2μmバルクCMOSプロセスによる-新しい超高速スタティックCMOS分周器の試作
浅溝分離0.2μmCMOSと超低電力分周器への応用
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