早坂 一郎 | HokkaidÔ University|Kanazawa University

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論文 | ランダム

• A Robust Embedded Ladder-Oxide/Cu Multilevel Interconnect Technology for 0.13μm Complementary Metal Oxide Semiconductor Generation
• Chip-Level Performance Improvement Using Triple Damascene Wiring Design Concept for the 0.13μm CMOS Generation and Beyond(Novel Device Architectures and System Integration Technologies)
• ウエノヤチグモの雄の記載とチョウセンヤチグモの日本における初記録
• 日本におけるグラバーヤチグモの初記録
• 微小振動による転動回転機構とその応用

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