山本 良一 | 東大生研:産総研
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概要
東大生研:産総研 | 論文
- 27aPS-35 シーディッドエピタキシー法を用いたCo/Cu金属多層膜の構造と物性(領域3ポスターセッション : 希土類合金,化合物磁性,薄膜・人工格子,スピングラス,フラストレーション,量子スピン系,実験技術開発等)(領域3)
- 20aPS-23 Co シード層を用いた Au 薄膜の構造制御
- 28aZE-6 Au(111) 面上の Co 成長における Bi サーファクタント効果
- 28aWD-6 シーディッドエピタキシー法を用いた Co/Cu(100) 金属多層膜の構造制御と物性
- 6pPSB-1 Fe(100)エピタキシャル成長におけるサーファクタント効果(表面界面結晶成長,領域9)