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五神 真 | 東大理:CREST (JST)
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27p-R-10 反応性スパッタリング法により作製した窒化スズ薄膜のXPS分析
30p-ZC-10 InN薄膜のエレクトロクロミズム
31a-E-10 窒化スズ薄膜の電気的・光学的特性に対する基板バイアス効果
30p-E-17 有機シリコン・プラズマCVDにおける発光分布と成膜過程
28a-E-10 高周波スパッタにより作製したITO薄膜のXPS解析
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