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高橋 紅野 | 秋田大理工
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122 イオンビームによる高品位成膜に関する研究(第1報) : 高付着力・高信頼成膜技術の開発
PVD による表面改質技術とその応用(既存材料の新素材化シリーズ)
ポリアトミッククラスターイオン注入による浅い接合形成
高エネルギーX線テレビ用螢光板(第二報)
200kVArガスクラスターイオンビームによる浅い注入層の形成
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