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黒川 大亮 | 太平洋セメント株式会社 中央研究所(〒285-8655千葉県佐倉市大作2-4-2)
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付加情報をもつ3×3マイクロパタ-ンコ-ド方式
カラ-濃度パタ-ンによる画像へのテキストデ-タの合成符号化法
Sb-M (M=Ag, Sn)同時蒸着膜の構造 : 薄膜
3値濃度パタ-ンを用いた画像と文字の合成符号化法
2層蒸着膜系(M/a-Sb:M=金属・半導体)におけるa-Sb膜の結晶化
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