Andoh Rie | BoZo Research Center Inc., Gotemba Research Institute
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概要
論文 | ランダム
- 電界ストレスによるlow-k膜の比誘電率上昇(TDDI)
- ED2000-135 / SDM2000-117 / ICD2000-71 低誘電率層間材料を用いたCuデュアルダマシン配線技術
- リフロー性有機塗布ガラスによる平たん化技術
- 低抵抗・低ε材料による平たん化多層配線の課題
- PP-637 新規膀胱がん特異的ゲノムメチル化領域と周辺遺伝子の発現(発表・討論,一般演題ポスター,第98回日本泌尿器科学総会)