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寺尾 吉哉 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所
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LPEマクロステップと不純物不均一分布 : I. 成長誘起不純物偏析現象
(Ga, Al)Asにおける成長誘起組成ゆらぎ
LPE界面過飽和度分布の理論的考察
LPE GaPのマクロステップにおける窒素原子不均一分布の測定 : エピタキシー
テラス状マクロステップ表面での過飽和度分布
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