Ando Tsuneya | ¹Department of Physics, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro, Tokyo 152-8551, Japan

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概要

• 同名の論文著者
• ¹Department of Physics, Tokyo Institute of Technology, 2-12-1 Ookayama, Meguro, Tokyo 152-8551, Japanの論文著者

論文 | ランダム

• ゾル-ゲル法による高温超伝導体薄膜の作製 (先端機能性薄膜作製の進歩)
• ゾルゲル法によるコ-ティング (新しい表面処理技術)
• 固定化酵素担体としての多孔性ガラスおよびセラミック (微生物を利用した化学)
• バイオセラミックス(ニュ-スから)
• アモルファスとはどんな状態か--その特性と問題点 (無機アモルファス)

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