Hamasaki Tomoaki | ²Department of Physics, Sophia University, 7-1 Kioi-cho, Chiyoda, Tokyo 102-8854

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概要

• 同名の論文著者
• ²Department of Physics, Sophia University, 7-1 Kioi-cho, Chiyoda, Tokyo 102-8854の論文著者

論文 | ランダム

• 極高真空測定子(3BG)
• 電子線応用装置の高度化を支えるオスミウム成膜技術
• 原子層堆積法による高誘電率ゲート絶縁膜の作製とその特性への基板親水性の影響 (小特集 真空を利用した材料プロセスの新展開--化学気相成長から原子層成長へ)
• 半導体材料プロセスにおける原子層成長の展開--薄膜作製装置のクリーニング技術 (小特集 真空を利用した材料プロセスの新展開--化学気相成長から原子層成長へ)
• 小特集 真空を利用した材料プロセスの新展開--化学気相成長から原子層成長へ

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