Lee Chul-Ho | ³National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Tsukuba, Ibaraki 305-8562

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概要

• 同名の論文著者
• ³National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Tsukuba, Ibaraki 305-8562の論文著者

論文 | ランダム

• Interfacial reaction of TiN/HfSiON gate stack in high-temperature annealing for gate-first metal-oxide-semiconductor field-effect transistors (Special issue: Solid state devices and materials)
• Healthy Buildings/IAQ'97に参加して
• VOC、ホルムアルデヒド等の化学物質による室内空気汚染問題(環境工学部門(2)研究協議会)
• 41419 VOC室内濃度予測と計算法(その2) : 吸着を考慮した理論式による予測
• 41418 VOC室内濃度予測と計算法 : (その1)在来データを用いた予測

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