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藤岡 政之 | 金沢大学 工学部
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金沢大学 工学部 | 論文
ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
ECRプラズマCVDによるSiのSiO_2ストライプパターンへの埋込み成長
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反応性スパッタ法によるSi(100)基板上へのYSZ薄膜のエピタキシャル成長
ECRプラズマCVD法によるSi低温エピタキシャル成長
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