Ushio Yoshijiro | Nikon Corporation, 1–6–3 Nishi–Ooi, Shinagawa–ku, Tokyo 140
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概要
論文 | ランダム
- 3"o×3"NaI(Tl)シンチレ-ションスペクトロメ-タ-による微弱漏洩γ線線量評価の新しい方法-3-若干異なる環境への適用
- 3"φ×3"NaI(Tl)シンチレ-ションスペクトロメ-タ-による微弱漏洩γ線線量評価の新しい方法-2-検出器に対するバックグラウンド放射能の分布
- 3″〓×3″NaI(Tl)シンチレ-ションスペクトロメ-タ-による微弱漏洩γ線線量評価の新しい方法-1-バックグラウンド推定法の原理
- アモルファスシリコンフォトダイオードの光電流増倍を用いた赤外光受光
- Giemsa-SEM Method to Observe the Surface Structure of Plasmocytoid Cell in a Heavy Chain Disease