Oda Masatoshi | NTT LSI Laboratories, 3–1 Morinosato Wakamiya, Atsugi–shi, Kanagawa 243–01, Japan
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概要
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- NTT LSI Laboratories, 3–1 Morinosato Wakamiya, Atsugi–shi, Kanagawa 243–01, Japanの論文著者
論文 | ランダム
- ホスファゼン環を末端に有するポリスチレンの合成 (末端反応性高分子-1-)
- 塩基触媒によるトリエトキシシリル末端ポリスチレンの縮合反応 (末端反応性高分子-1-)
- (p-イソプロペニルフェネチル)ポリ(α-メチルスチレン)マクロモノマ-の合成とそのアニオン重合性 (末端反応性高分子-1-)
- 環状オニウム塩型テレケリックポリマ-を用いるセルロ-ス系グラフト共重合体の合成 (末端反応性高分子-1-)
- 末端にアルコキシシリルスチレンを持つパ-フルオロアルカンの合成,重合と得られたポリマ-の酸素及びエタノ-ル選択透過膜への利用 (末端反応性高分子-1-)