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片山 将道 | 日東紡績株式会社化繊研究所
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論文 | ランダム
高速/高信頼性 130nm-node MRAM
高い駆動能力を有する高信頼HfSiONゲート絶縁膜の作製
HfSiON high-kゲート形成プロセスによるBTストレス中のV_安定性改善(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
低リーク、高移動度HfSiONゲートを実現する界面制御技術(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
N_2プラズマを用いたSi基板直接窒化SiNゲート絶縁膜の作製
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