片山 将道 | 日東紡績株式会社化繊研究所

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概要

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• 日東紡績株式会社化繊研究所の論文著者

論文 | ランダム

• 高速/高信頼性 130nm-node MRAM
• 高い駆動能力を有する高信頼HfSiONゲート絶縁膜の作製
• HfSiON high-kゲート形成プロセスによるBTストレス中のV_安定性改善(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• 低リーク、高移動度HfSiONゲートを実現する界面制御技術(プロセスクリーン化と新プロセス技術)
• N_2プラズマを用いたSi基板直接窒化SiNゲート絶縁膜の作製

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