齋藤 友一 | 海洋研究開発機構 地球情報基盤センター
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概要
論文 | ランダム
- シリコンのエピタキシャル成長による薄膜形成 (身近になったCVD技術)
- シリコン結晶とドーピング : 電子材料シリーズ, 阿部孝夫, 小切間正彦, 谷口研二共著, A5判230ページ, 丸善, 1986年刊, 定価3,800円
- エピタキシャル成長の化学反応 (結晶構造から化学反応へ)
- エレクトロメカニクス用ステンレスばね鋼
- 3a-A-2 GaPホモエピタキシーにおけるらせんタイプのミスフィット転位