西田 正浩 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所健康工学研究部門人工臓器研究グループ
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概要
論文 | ランダム
- シリコンのエピタキシャル成長による薄膜形成 (身近になったCVD技術)
- シリコン結晶とドーピング : 電子材料シリーズ, 阿部孝夫, 小切間正彦, 谷口研二共著, A5判230ページ, 丸善, 1986年刊, 定価3,800円
- エピタキシャル成長の化学反応 (結晶構造から化学反応へ)
- エレクトロメカニクス用ステンレスばね鋼
- 3a-A-2 GaPホモエピタキシーにおけるらせんタイプのミスフィット転位