植村 正弘 | Department of Dental Materials, Nihon Univ. School of Dentistry
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概要
論文 | ランダム
- YBa_2Cu_3O_yとMn酸化物薄膜・多層膜の作製
- YBCO薄膜における不可逆磁場・ピン止め特性の膜厚依存性
- 25a-ZB-11 TiNb、TiV合金の電気抵抗
- 酸化物超伝導体の臨界電流研究の現状(II 平成元年度研究会報告,超強磁場による電子制御の研究,科研費研究会報告)
- 酸化物超伝導体の臨界磁場研究の周辺(I 昭和63年度研究会報告,超強磁場による電子制御の研究,科研費研究会報告)