西川 通則 | JSR株式会社
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概要
JSR株式会社 | 論文
- フォトレジストにおける増感剤としてのカルバゾール
- 1D07 NEXAFSによるラビング処理したPMDA-ODA基板上の5CB薄膜の分子配向の研究(2004年日本液晶学会討論会)
- P1-B-14 弾性表面波によるガラス基板上の高分子薄膜の物性評価(超音波物性・材料,ポスターセッション1(概要講演))
- 2D16 カルコン系光配向膜における置換基及び共重合の効果
- 21pPSA-24 Spin-on-glass薄膜の構造解析(21pPSA 領域5ポスターセッション,領域5(光物性))