Nishio Johji | Advanced Semiconductor Devices Research Laboratories, R&D Center, Toshiba Corporation, 1 Komukai Toshiba–cho, Saiwai–ku, Kawasaki 210–8582, Japan

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概要

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• Advanced Semiconductor Devices Research Laboratories, R&D Center, Toshiba Corporation, 1 Komukai Toshiba–cho, Saiwai–ku, Kawasaki 210–8582, Japanの論文著者

論文 | ランダム

• 〔237〕平炉の操業成績向上のための微粉炭・重油混合油の利用, E.M. Rudzki, B.K. Pease, & T.H. Weidner, J. Inst. Fuel, 1965, Vol. 38, No. 291, p. 154〜165, 図15,表5
• 41542 省エネルギー改修技術を導入した既建築物における運用実績(その1) : 省エネルギー手法の概要
• 〔490〕平行スリットバーナから燃焼室内に出る燃焼ガス流れの特徴, R. Jung, Mitt. VGB, 1964-6, Ht.90, S. 143〜153, 図18
• テクニカルレポート 簡易型BEMSの開発
• 〔488〕層流微粉炭火炎における粒径効果と火炎伝ぱ率の特性, W.F. Marshall, H.B. Palmer, & D.J. Seery, J. Inst. Fuel., 1964-8, Vol. 37, No. 283, p. 342〜349, 図7, 表1

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